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地址： 青島市膠州市上合示范區(qū)閩江路60號
設(shè)備名稱：手動紫外光刻機(jī) 品牌型號 ABM
設(shè)備用途
光刻機(jī)發(fā)出的紫外光通過具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版對樣片曝光，然后通過顯影將掩膜版上的圖形結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到樣片表面的光刻膠上。
主要技術(shù)指標(biāo)：
曝光波長：350nm---450nm
可加工尺寸：2inch 3inch晶圓和≥1.5cm2碎片
極限分辨率：3um
正面套刻精度：≤1um
線寬均一性：≤3％
曝光模式：接觸式曝光、接近式曝光
